क्लॉस सल्फर रिकवरी प्रक्रिया मा सक्रिय एल्युमिना काहे महत्वपूर्ण है?
क्लॉस सल्फर रिकवरी यूनिट मा नियोजित एल्युमिना उत्प्रेरक यहि अनुप्रयोग के लिए उत्प्रेरक के सबसे क्लासिक अऊर व्यापक रूप से उपयोग कीन जाय वाले वर्ग का प्रतिनिधित्व करत हैं। उच्च-शुद्धता सक्रिय एल्यूमिना हाइड्रोजन सल्फाइड (एच2एस) अऊर सल्फर डाइऑक्साइड (एसओ2) तत्व सल्फर (एस) का उत्पादन करै के लिए, जबकि एक साथ सल्फर-के हाइड्रोलिसिस का बढ़ावा देत है जेहिमा -उत्पाद जइसे कार्बोनिल सल्फाइड (सीओएस) अऊर कार्बन डाइसल्फाइड (सीएस) शामिल हैं2), जेहिसे सल्फर रिकवरी दर बढ़ जात है।
क्लाउस प्रोसेस सल्फर रिकवरी का है?
क्लाउस प्रक्रिया आधुनिक उद्योग मा सबसे व्यापक रूप से उपयोग कीन जाय वाली सल्फर रिकवरी प्रौद्योगिकियन में से एक है। ई मुख्य रूप से एच युक्त अम्लीय गैस का बदलै के लिए उपयोग कीन जात है2एस का तत्व एस मा बदल देत है, जबकि सल्फाइड के सीधे उत्सर्जन से होए वाले पर्यावरण प्रदूषण का कम करत है। क्लॉस प्रक्रिया सल्फर रिकवरी विभिन्न औद्योगिक सेटिंग्स पर लागू होत है जवन बड़ी मात्रा मा सल्फर-अम्ल गैसन पैदा करत हैं, जइसे कि:
* तेल रिफाइनरी: रिफाइनिंग प्रक्रिया के दौरान पैदा कीन जाय वाली अम्ल गैसन से सल्फर का पुनर्प्राप्त करै के लिए;
* प्राकृतिक गैस प्रसंस्करण: प्राकृतिक गैस विसल्फराइजेशन के दौरान उत्पन्न अम्ल गैसों का इलाज करै के लिए;
* कोयला रासायनिक उद्योग: कोयला गैसीकरण अऊर सिंगास शुद्धिकरण के दौरान उत्पादित सल्फर-असर वाली अम्ल गैसों का इलाज करै के लिए;
* कोकिंग उद्योग: कोक ओवन गैस मा हाइड्रोजन सल्फाइड का तत्व सल्फर मा बदलै के लिए;
* पेट्रोकेमिकल उद्योग: एच से सल्फर का पुनर्प्राप्त करै के लिए2एस-प्रक्रिया गैस युक्त;
* सल्फाइड-संबंधित उद्योग: सल्फ्यूरिक एसिड, विस्कोस अऊर रासायनिक फाइबर से अपशिष्ट गैस युक्त सल्फर- से निपटै के लिए।
क्लॉस प्रक्रिया मा एल्यूमिना उत्प्रेरक कहाँ स्थित है?
एक विशिष्ट क्लॉस प्रक्रिया सल्फर रिकवरी इकाई मा एसिड गैस फीड सिस्टम, एसिड गैस भट्ठी, अपशिष्ट गर्मी बॉयलर, सल्फर कंडेनसर, क्लॉस उत्प्रेरक रिएक्टर अऊर तरल सल्फर संग्रह गड्ढा या सल्फर सील टैंक शामिल है।
क्लाउस प्रक्रिया के मूल प्रतिक्रिया एच के बीच प्रतिक्रिया है2एस अऊर एसओ2तत्व सल्फर का उत्पादन करै के लिए। व्यवहार मा, एच का एक हिस्सा2एसओ उत्पन्न करै के लिए एस का सबसे पहिले दहन कीन जात है2; परिणामी एसओ2फिर शेष एच के साथ प्रतिक्रिया करत है2एक उत्प्रेरक के ऊपर S-क्लाउस प्रतिक्रिया-सल्फर वाष्प पैदा करै के लिए, जवन ठंडा होए पर तरल सल्फर पैदा करत है।
इहेबदि,क्लाउस एल्यूमिना उत्प्रेरकमुख्य रूप से इन उत्प्रेरक रिएक्टरन मा उपयोग कीन जात हैं। अऊर मानक औद्योगिक क्लॉस उत्प्रेरक बिस्तर आम तौर पर सक्रिय एल्युमिना का उपयोग करत हैं।
क्लॉस प्रक्रिया मा सक्रिय एल्यूमिना उत्प्रेरक के कार्य
मुख्य क्लॉस प्रतिक्रिया का उत्प्रेरित करब। ई सबसे महत्वपूर्ण कार्य है! उत्प्रेरक के बिना, एच के बीच प्रतिक्रिया दर2एस अऊर एसओ2अपेक्षाकृत धीमा है; हालांकि, सक्रिय एल्यूमिना कईयो सक्रिय सतह साइट प्रदान करत है, जेहिसे प्रतिक्रिया औद्योगिक रूप से स्वीकार्य तापमान पर तेजी से संतुलन के पास पहुँच सकत है।
सीओएस हाइड्रोलिसिस का उत्प्रेरित करब। एच के अलावा2एस, अम्ल गैस मा आम तौर पर सीओ होत है2, हाइड्रोकार्बन अऊर थोड़ी मात्रा मा कार्बनिक सल्फाइड। थर्मल रिएक्शन फर्नेस मा, कुछ सल्फर-युक्त कार्बनिक यौगिक सीओएस अऊर सीएस बनावत हैं2. सक्रिय एल्यूमिना सीओएस के भीतर सल्फर के वापस एच में रूपांतरण का उत्प्रेरित करत है2एस, जेसे ई क्लॉस रिएक्शन सिस्टम मा प्रवेश कर सकत है; कुल सल्फर वसूली दर का अधिकतम करै के लिए ई बहुत महत्वपूर्ण है।
सीएस का उत्प्रेरित करब2जल अपघटन सी एस2क्लाउस प्रक्रिया मा विशेष चिंता का उपोत्पाद है। सीएस का हाइड्रोलिसिस2अणु के भीतर निहित सल्फर का वापस एच मा बदल देत है2एस, ईका बाद मा क्लॉस प्रतिक्रिया मा भाग लेवे में सक्षम बनावत है; ई सक्रिय एल्यूमिना उत्प्रेरकन का एक अउर प्रमुख कार्य है।
क्लाउस सल्फर रिकवरी मा सक्रिय एल्युमिना काहे जरूरी है?
एल्युमिना-आधारित क्लॉस उत्प्रेरक के लिए, कुंजी बस अल का अधिकतम करब नाहीं है2O3बिसय बस्तु। यहिके बजाय, ई विशिष्ट सतह क्षेत्र, छिद्र संरचना, सतह गतिविधि अऊर निष्क्रियता के प्रतिरोध के व्यापक अनुकूलन के आवश्यकता होत है।
एच के अलग-अलग आणविक आकारन का देखत हुए2एस, एसओ2, सीओएस, सीएस2, अऊर एच2ओ-अऊर ई तथ्य कि क्लाउस प्रतिक्रिया मा उत्प्रेरक कणन-छिद्र आकार प्रबंधन के भीतर बहु-घटक गैसन के प्रसार शामिल है, महत्वपूर्ण है। अगर छिद्र बहुत छोट हैं, तौ अभिक्रियाशील प्रसार बाधित होत है अऊर आंतरिक प्रसार प्रतिरोध बढ़ जात है, जेसे उत्प्रेरक के भीतर सक्रिय साइटन के पूरा उपयोग रोका जात है। उल्टा, अगर छिद्र बहुत बड़ा होत हैं, तौ सक्रिय साइटन के संख्या कम होइ जात है। नतीजतन, औद्योगिक क्लॉस उत्प्रेरकन का एक विशेष रूप से इंजीनियर छिद्र आकार वितरण के आवश्यकता होत है, अऊर सक्रिय एल्यूमिना इन आवश्यकताओं का पूरा करै के लिए आवश्यक सतह गुण अऊर छिद्र संरचना प्रदान कइ सकत है।
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